特許
J-GLOBAL ID：200903089068543025
露光方法及び露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
立石 篤司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-027743
公開番号（公開出願番号）：特開平11-214297
出願日： 1998年01月26日
公開日（公表日）： 1999年08月06日
要約：
【要約】【課題】 露光停止により無意味にスループットが低下するのを防止する。【解決手段】 露光に先立って、基板に対してパターンを連続して転写するための諸条件が決定され、この決定された諸条件に基づいて、パターン転写中における照明光の光特性が所定の規格から外れた時の露光手順として、所定枚数の基板の露光終了まで露光を続行するか露光を一時的に停止するかの手順が設定される(図2ステップ116〜120)。そして、露光中に照明光の光特性が所定の規格から外れた時に、設定された露光手順に基づいてパターンが基板に転写される。ここで、上記の露光手順として、所定枚数の基板の露光終了まで露光を続行する手順が設定された場合、所定枚数の基板の露光処理が終了するまで露光が停止することがなく、露光停止により無意味にスループットが低下するのを防止することができる。
請求項（抜粋）：
光源からの照明光をマスクに照射し、前記マスクに形成されたパターンを投影光学系を介して所定枚数の基板に対して順次転写する露光方法であって、前記所定枚数の基板に対してパターンを転写するための諸条件を決定する第1工程と;前記決定された諸条件に基づいて、前記パターン転写中における前記照明光の光特性が所定の規格から外れた時の露光手順として、前記所定枚数の基板の露光終了まで露光を続行するか、露光を一時的に停止し前記照明光の光特性を規格内に収めた後露光を再開するかの手順を設定する第2工程と;前記所定枚数の基板の露光中に照明光の光特性が所定の規格から外れた時に、前記設定された露光手順に基づいて前記パターンを前記基板に転写する第3工程とを含む露光方法。
FI (2件)：
H01L 21/30 516 D
, H01L 21/30 516 Z
