特許

J-GLOBAL ID：200903089075319513

薄膜形成方法およびその装置

発明者： 渡辺 英章 ,  武居 学
出願人/特許権者： カシオ計算機株式会社
代理人 (1件)： 杉村 次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-160175
公開番号（公開出願番号）：特開平8-334766
出願日： 1995年06月05日
公開日（公表日）： 1996年12月17日
要約：

【要約】【目的】 作業性を向上させることができる薄膜形成方法およびその装置を提供することにある。【構成】 この薄膜形成方法では、2つのノズル13、14からプレチルト角の異なる2種類の配向膜形成用材料15、16をそれぞれ透明基板21上に噴出させて、透明基板21上にプレチルト角の異なる2種類の配向膜17、18をストライプ状に形成することができる。したがって、1回の塗布工程でプレチルト角の異なる2種類の配向膜17、18を形成することができ、マスクラビング法のように、ラビングを2回施したり、フォトリソグラフィ配向膜分割法のように、配向膜を2回塗布した後、配向膜をパターニングする必要がなく、作業工程数を減らして、作業性を向上させることができる。この結果、製造コストを低くすることができる。

請求項（抜粋）：

基板とこの基板上に配置された複数のノズルとのうちの少なくともいずれか一方を移動させながら、前記複数のノズルは配向膜形成用材料をそれぞれ前記基板上に噴出させて、配向膜を所定の配列パターンに応じて形成することを特徴とする薄膜形成方法。