特許
J-GLOBAL ID：200903089076302240
露光用マスク
発明者：
出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-140339
公開番号（公開出願番号）：特開平6-347999
出願日： 1993年06月11日
公開日（公表日）： 1994年12月22日
要約：
【要約】【目的】露光装置における反射光による悪影響を減少させ、ホトリソグラフィ工程での歩留を向上させること。【構成】縮小投影露光用のレチクル1のパターン3形成部を覆うペリクル膜5をガラス基板2に対して傾斜させて用いる。【効果】光学系の光軸周辺部から入射した光の反射光を光軸周辺部から分散させることができるので、半導体基板上のホトレジストの光軸周辺部が反射光によって集中的に感光せず、現像後のホトレジスト残膜の厚さのバラツキを減少させることができる。従ってホトリソグラフィ工程での歩留を向上させることができる。
請求項（抜粋）：
光透過性の基板の表面に遮光材料によって所望のパターンが形成され、光を透過させることにより所望のパターンを感光材料に投影させるための露光用マスクであって、前記基板のパターン形成面にパターン形成領域を囲むフレームが装着され、該フレームの上部には前記パターン形成領域を覆う光透過性の膜が取り付けられており、該膜は、前記基板に対し傾斜していることを特徴とする露光用マスク。
IPC (2件)：
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