特許
J-GLOBAL ID：200903089077487162
半導体集積回路のマスクパターン処理方法および処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鳥居 洋
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-114100
公開番号（公開出願番号）：特開平5-289312
出願日： 1992年04月06日
公開日（公表日）： 1993年11月05日
要約：
【要約】【目的】 この発明の目的は、安価に、高速な処理を行え、半導体集積回路の設計コストを低減することにある。【構成】 半導体集積回路のマスクパターン処理方法において、マスクパターンのデザインルールチェック時に、修正のあったレイヤに関するチェックルールのみを実行する。
請求項（抜粋）：
マスクパターンのデザインルールチェック時に、修正のあったレイヤに関するチェックルールのみを実行することを特徴とする半導体集積回路のマスクパターン処理方法。
IPC (3件)：
G03F 1/08
, G06F 15/60 370
, H01L 21/027
