特許
J-GLOBAL ID:200903089081401370

MOSゲートパワーデバイス及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 杉村 暁秀 (外6名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-294062
公開番号(公開出願番号):特開平9-232567
出願日: 1996年11月06日
公開日(公表日): 1997年09月05日
要約:
【要約】【課題】 ブレークダウン電圧を減少させることなく、出力抵抗及びキャパシタンスを低くしたMOSゲートパワーデバイスを提供する。【解決手段】 MOSゲートパワーデバイスは、複数個の基本機能ユニットであって、各基本機能ユニットが、第1の固有抵抗値を有する第2導電型の半導体材料層中に形成された第1導電型の本体領域を有するこれら基本機能ユニットと、各本体領域の下側にそれぞれ配置され、第1の固有抵抗値よりも大きな第2の固有抵抗値を有する第2導電型の低ドープ領域とを具える。
請求項(抜粋):
複数個の基本機能ユニットであって、各基本機能ユニットが、第1の固有抵抗値を有する第2導電型の半導体材料層中に形成された第1導電型の本体領域を有するこれら基本機能ユニットと、各本体領域の下側にそれぞれ配置され、第1の固有抵抗値よりも大きな第2の固有抵抗値を有する第2導電型の低ドープ領域とを具えていることを特徴とするMOSゲートパワーデバイス。
引用特許:
審査官引用 (3件)
  • 特開平4-127480
  • 特開平4-127480
  • 特開平4-127480

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