特許
J-GLOBAL ID：200903089085242292

シルセスキオキサン系ポリマー成形体及びその製造方法

発明者：
小林 敏明

小林 敏明 について

, 
林 輝幸

林 輝幸 について

, 
田中 正人

田中 正人 について


出願人/特許権者：
独立行政法人産業技術総合研究所

独立行政法人産業技術総合研究所 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-091159
公開番号（公開出願番号）：特開2002-284999
出願日： 2001年03月27日
公開日（公表日）： 2002年10月03日
要約：
【要約】【課題】 耐熱性を有し、良好な絶縁性及び機械的強度等を有するヒドロシリル化重合体を用いた不溶不融のシルセスキオキサン系ポリマー成形体及びその簡易な製法を提供する。【解決手段】 一般式(1)(HSiO3/2)n (1)(式中、nは4〜1000の整数である。)で表されるヒドリドシルセスキオキサン類又はそれらの混合物と、一般式(2) CH2=CH-SiR2-O-(SiR2-O)q-(SiR'2-O)q'-SiR2-CH=CH2 (2)(式中、R及びR'は、それぞれ置換基を有していても良いアルキル基又は置換基を有していても良いアリール基を示し、q及びq'は、それぞれ0又は正の整数である。)で表されるジビニルシロキサン類又はそれらの混合物とのヒドロシリル化重合体を、軟化点或いは融点以上の温度で加熱硬化させて得られるシルセスキオキサン系ポリマー成形体であり、この成形体は絶縁材料、耐熱材料等として利用できる。
請求項（抜粋）：
一般式(1)(HSiO3/2)n (1)(式中、nは4〜1000の整数である。)で表されるヒドリドシルセスキオキサン類又はそれらの混合物と、一般式(2) CH2=CH-SiR2-O-(SiR2-O)q-(SiR'2-O)q'-SiR2-CH=CH2 (2)(式中、R及びR'は、それぞれ置換基を有していても良いアルキル基又は置換基を有していても良いアリール基を示し、q及びq'は、それぞれ0又は正の整数である。)で表されるジビニルシロキサン類又はそれらの混合物とのヒドロシリル化重合体を、軟化点或いは融点以上の温度で加熱硬化させて得られるシルセスキオキサン系ポリマー成形体。
IPC (6件)：
C08L 83/05 ,  B29C 35/02 ,  B29C 39/02 ,  C08J 5/00 CFH ,  C08L 83/07 ,  B29K 83:00
FI (6件)：
C08L 83/05 ,  B29C 35/02 ,  B29C 39/02 ,  C08J 5/00 CFH ,  C08L 83/07 ,  B29K 83:00
Fターム (28件)：
4F071AA67 ,  4F071AA84 ,  4F071AA85 ,  4F071AF14 ,  4F071AF39 ,  4F071AF45 ,  4F071AH12 ,  4F071BA01 ,  4F071BB01 ,  4F071BB12 ,  4F071BC07 ,  4F203AA33 ,  4F203AR06 ,  4F203DA01 ,  4F203DA14 ,  4F203DB01 ,  4F203DC01 ,  4F203DE06 ,  4F203DE07 ,  4F204AA33 ,  4F204AR06 ,  4F204EA03 ,  4F204EB01 ,  4F204EE06 ,  4F204EE07 ,  4J002CP04W ,  4J002CP14X ,  4J002GQ01
引用特許：
審査官引用 (3件)

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