特許

J-GLOBAL ID：200903089087089335

合成ガスを生成するための触媒

発明者： セスハン,クラトゥ-イェル ,  ロス,ジュリアン・リチャード・エイチ ,  メルセラ,パトリック・デニス・エル ,  ズー,エルゼンク
出願人/特許権者： マンネスマン・アクチエンゲゼルシャフト ,  ケイ・ティー・アイ・グループ・ベスローテン・フェンノートシャップ
代理人 (1件)： 奥山 尚男
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-522634
公開番号（公開出願番号）：特表平9-500054
出願日： 1994年04月20日
公開日（公表日）： 1997年01月07日
要約：

【要約】本発明は、少なくとも80重量%のZrO2を有する担体物質と、Y,La,Al,Ca,Ce及びSiから成る群からの酸化物と、第VIII群の金属を有するコーティング層とから成る、CO2及びCH4及び/又は別の軽量の炭化水素の反応により合成ガス(COとH2との混合気)を生成するための触媒に関する。

請求項（抜粋）：

酸化物の担体物質と、化学元素の周期律表の第VIII群の金属のうちの少なくとも1つから成る0.1〜7.0重量%のコーティング層とから成る、CO2及びCH4及び/又は別の軽量の炭化水素の反応により合成ガス(COとH2との混合気)を生成するための触媒において、 - 担体物質が少なくとも80重量%、有利には少なくとも90重量%、ZrO2から成り、前記担体物質は、コーティング層を形成する前に最大670°Cでか焼され、 - 前記担体物質が、Y,La,Al,Ca,Ce及びSiから成る群からの1つ又は複数の酸化物を0.5〜10モル%の割合だけ混入することにより、熱的に安定化され、 - 前記コーティング層の形成が、公知の乾式含浸法又は湿式含浸法により、錯化合物として溶媒の中に存在するコーティング物質が純粋に物理的に吸着され、次いで溶液を蒸発させることにより行われ、このようにして得られた物質が最後に最大800°Cでか焼されることを特徴とする合成ガスを生成するための触媒。

IPC (3件)：

B01J 23/63 ,  B01J 23/42 ,  C01B 3/40

FI (3件)：

B01J 23/56 301 M ,  B01J 23/42 M ,  C01B 3/40