特許

J-GLOBAL ID：200903089089247957

ウェザストリップの連続加硫方法

発明者： 沖田 智昭 ,  酒井 高明
出願人/特許権者： 豊田合成株式会社
代理人 (1件)： 飯田 昭夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-336772
公開番号（公開出願番号）：特開2001-150459
出願日： 1999年11月26日
公開日（公表日）： 2001年06月05日
要約：

【要約】【課題】 塩浴(LCM)加硫を使用せずに、過酸化物加硫ができるウェザストリップの加硫方法を提供すること。【解決手段】 押出物断面の全部又は一部が過酸化物加硫系部Pで残部が硫黄加硫系部Sである、エチレンαオレフィン系ゴム(EOR)ゴム配合物の押出物を空気含有雰囲気で連続加硫を行なうウェザストリップの連続加硫方法。連続加硫に先立ち、少なくとも前記過酸化物加硫系部の表面の空気遮断処理を行なう。例えば、空気遮断処理は、硫黄加硫系部Sにより過酸化物加硫系部Pを同時的に押出し被覆して行なう。

請求項（抜粋）：

押出物断面の全部又は一部が過酸化物加硫系部で残部が硫黄加硫系部である、エチレンαオレフィン系ゴム(EOR)配合物の押出物を空気存在雰囲気で連続加硫を行なうウェザストリップの連続加硫方法において、前記連続加硫に先立ち、少なくとも前記過酸化物加硫系部の表面の空気遮断処理を行なうことを特徴とするウェザストリップの連続加硫方法。

IPC (5件)：

B29C 35/06 ,  B60R 13/06 ,  B29K 21:00 ,  B29K105:24 ,  B29L 31:26

FI (5件)：

B29C 35/06 ,  B60R 13/06 ,  B29K 21:00 ,  B29K105:24 ,  B29L 31:26

Fターム (14件)：

3D024AA08 ,  3D024AB04 ,  3D024AB21 ,  3D024AB33 ,  3D024AB57 ,  4F203AA09 ,  4F203AH23 ,  4F203DA08 ,  4F203DA11 ,  4F203DB02 ,  4F203DB26 ,  4F203DC03 ,  4F203DC09 ,  4F203DL01