特許

J-GLOBAL ID：200903089092942186

溶解装置およびそれを用いた溶解方法

発明者： 中住 征治
出願人/特許権者： 京セラ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-298024
公開番号（公開出願番号）：特開2005-069532
出願日： 2003年08月21日
公開日（公表日）： 2005年03月17日
要約：

【課題】 太陽電池用多結晶シリコンの溶解装置において、装置の構造と機構に起因して多結晶シリコンブロックの品質が悪化するという問題があった。【解決手段】 るつぼ1,2の上部と側部に加熱手段7,6を設け、このるつぼにシリコン原料を投入して上記加熱手段で溶解して底部に設けた出湯口3から出湯する溶解装置であって、上記出湯口の径を10mmより大きく、50mmより小さい範囲にするとともに、上記るつぼの上部の加熱手段7と側部の加熱手段6でるつぼ上部シリコン原料から下部のシリコン原料へ徐々に溶解して、上記出湯口から出湯する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

るつぼに投入されたシリコン原料を加熱手段で加熱溶解して底部に設けた円形の出湯口から出湯する溶解装置において、前記出湯口の径を10mmより大きく、50mmより小さい範囲としたことを特徴とする溶解装置。

IPC (4件)：

F27B14/18 ,  F27B14/06 ,  F27D3/14 ,  H01L31/04

FI (4件)：

F27B14/18 ,  F27B14/06 ,  F27D3/14 Z ,  H01L31/04 H

Fターム (22件)：

4G072AA01 ,  4G072BB12 ,  4G072GG04 ,  4G072HH01 ,  4G072MM38 ,  4G072UU02 ,  4K001AA23 ,  4K001BA23 ,  4K001GA14 ,  4K001GA17 ,  4K001GB02 ,  4K046AA01 ,  4K046AA02 ,  4K046BA05 ,  4K046CD02 ,  4K046CD03 ,  4K046CE08 ,  4K055AA03 ,  4K055JA17 ,  5F051AA03 ,  5F051BA11 ,  5F051CB05

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 溶解装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-198368   出願人：京セラ株式会社
• 溶解装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-276894   出願人：京セラ株式会社