特許
J-GLOBAL ID：200903089110478611
薄板状基体搬送装置及び薄板状基体搬送方法
発明者：
,
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
福森 久夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-040707
公開番号（公開出願番号）：特開2002-308424
出願日： 1991年11月16日
公開日（公表日）： 2002年10月23日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】±0.2mmの精度を持って薄板状基体の静止状態を保つことが可能であり、搬送中における薄板状基体への汚染を防止した薄板状基体搬送装置及び薄板状基体搬送方法を提供する。【解決手段】薄板状基体を直線的に進行させるための移送空間を有する移送ユニット1と、薄板状基体の動きを制御するための制御空間を有する制御ユニット2とを密閉状態で複数組み合わせてなり、薄板状基体を浮上させるための複数の浮上用噴出孔と、当該移送空間内及び制御空間内のガスを排気するための排気手段9a、9bと、真空排気系に連通する吸引ホール11と、当該吸引ホール11から延びる溝と、薄板状基体の半径方向の位置を制御するための複数の半径方向制御用噴出孔と、薄板状基体を停止ないし次のユニットへ送出させるための複数の停止・送出用噴出孔と、を少なくとも有する。
請求項（抜粋）：
薄板状基体を直線的に進行させるための移送空間を有する移送ユニットと、薄板状基体の動きを制御するための制御空間を有する制御ユニットとを複数組み合わせてなる薄板状基体をガスにより搬送する搬送装置であり、前記移送空間および/または制御空間には、イオン発生手段が設けられていることを特徴とする薄板状基体搬送装置。
IPC (3件)：
B65G 49/07
, B65G 49/00
, H01L 21/68
B65G 49/07 K
, B65G 49/00 A
, H01L 21/68 A
5F031CA02
, 5F031FA01
, 5F031GA63
, 5F031NA04
, 5F031PA21
, 5F031PA26
