特許

J-GLOBAL ID：200903089110540732

液浸露光用フォトレジスト用高分子化合物の製造法

発明者： 新井 隆
出願人/特許権者： ダイセル化学工業株式会社
代理人 (1件)： 後藤 幸久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-255497
公開番号（公開出願番号）：特開2006-070167
出願日： 2004年09月02日
公開日（公表日）： 2006年03月16日
要約：

【課題】 耐水性に優れるレジスト膜を形成可能な液浸露光用フォトレジスト用高分子化合物を提供する。【解決手段】 液浸露光用フォトレジスト用高分子化合物の製造法は、酸によりその一部が脱離してアルカリ可溶性機能を発現する基を有するモノマー単位を含むポリマーを有機溶媒による沈殿に付した後、さらに水性溶媒による再沈殿、リンス又はリパルプ操作に付すことを特徴とする。沈殿に付すポリマーとして、酸によりその一部が脱離してアルカリ可溶性機能を発現する基を有するモノマー単位と基板密着性機能を有するモノマー単位を含むポリマーを用いることができる。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

酸によりその一部が脱離してアルカリ可溶性機能を発現する基を有するモノマー単位を含むポリマーを有機溶媒による沈殿に付した後、さらに水性溶媒による再沈殿、リンス又はリパルプ操作に付すことを特徴とする液浸露光用フォトレジスト用高分子化合物の製造法。

IPC (7件)：

C08F 6/00 ,  C08F 20/18 ,  C08F 20/28 ,  C08F 32/00 ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027

FI (7件)：

C08F6/00 ,  C08F20/18 ,  C08F20/28 ,  C08F32/00 ,  G03F7/033 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

Fターム (37件)：

2H025AA00 ,  2H025AA14 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17 ,  4J100AK32Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AR09P ,  4J100AR11P ,  4J100BA02P ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA11P ,  4J100BA11Q ,  4J100BA15P ,  4J100BC07P ,  4J100BC07Q ,  4J100BC53P ,  4J100BC53Q ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100GA18 ,  4J100GA19 ,  4J100GC07 ,  4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 液浸型露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-121757   出願人：株式会社ニコン

審査官引用 (2件)

• 脂環式炭化水素系重合体の含有金属除去方法および感放射線性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-153421   出願人：JSR株式会社
• 酸解離性基含有樹脂およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-360290   出願人：JSR株式会社, 大塚化学株式会社