特許
J-GLOBAL ID：200903089120574341
試料ステージおよびその温度制御方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-118777
公開番号（公開出願番号）：特開平5-315231
出願日： 1992年05月12日
公開日（公表日）： 1993年11月26日
要約：
【要約】【目的】電子ビーム描画装置の試料ステージの温度を管理して高精度に描画を行う。【構成】電子ビーム描画装置の試料ステージはテーブル104とテーブル103と駆動系105によって構成され、テーブル103内にペルティエ効果を持った素子108または空間109を設け、ペルティエ効果を持った素子108に電流を流すまたは空間109に気体を給排気させることによって試料ステージを構成するテーブル103の温度制御を行う。【効果】試料ステージの温度変化を減少させ、温度変動による試料またはカセットの伸縮による描画の誤差を減少させることができる。
請求項（抜粋）：
真空内で可動な電子ビーム描画装置の試料ステージにおいて、ステージの可動部分にペルティエ効果を持つ素子を具備することを特徴とする電子ビーム描画装置の試料ステージ。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 504
