特許

J-GLOBAL ID：200903089121987011

気液接触装置及び凍結濃縮分離方法

発明者： 林 賢二
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 中島 淳 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-211311
公開番号（公開出願番号）：特開2003-024736
出願日： 2001年07月11日
公開日（公表日）： 2003年01月28日
要約：

【要約】【課題】 補給水量を削減し、溶剤吸収効率を維持すると共に最終的に排出される水の溶剤濃度を高濃度とする気液接触装置を得る。【解決手段】 ガス中の溶剤を吸収した水が、処理槽14から排水され凍結装置22へ送られ、凝固点の違いから溶剤は凍結することなく、水は凍結して純水に近い氷となる。ここで、氷板Cの表面には、高濃度の溶剤を含む氷層C1が付着する傾向にある。このため、氷層C1に温風を吹き付け、氷板Cの表面を所定厚み融解して除去することで、氷板Cに含有される溶剤濃度を低減化することができる。この氷を融解して処理槽14で再び使用して、新鮮水の水量を削減する。水と分離された未凍結水の溶剤の濃度は濃縮されて高くなっており、この高濃度の溶剤を含有する水を洗浄剤、燃料、平版印刷版に塗布する塗布液として使用することができる。

請求項（抜粋）：

ガス発生源からガスが導入される処理塔とこの処理塔へ水を供給すると共に溶剤を吸収した水が還流する処理槽とで構成される気液接触ユニットと、前記処理槽から排水され溶剤を含有する水を凍結する凍結手段と、前記凍結手段で凍結された氷を融解して前記処理槽へ送水するリサイクル手段と、を備えた気液接触装置において、前記凍結手段で凍結した氷の表面を除去する除去手段を有することを特徴とする気液接触装置。

IPC (5件)：

B01D 53/14 103 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/44 ,  B01D 53/77 ,  C02F 1/22

FI (4件)：

B01D 53/14 103 ,  C02F 1/22 A ,  B01D 53/34 117 C ,  B01D 53/34 ZAB

Fターム (18件)：

4D002AA00 ,  4D002AB03 ,  4D002BA02 ,  4D002BA20 ,  4D002CA01 ,  4D002DA35 ,  4D002EA07 ,  4D002FA01 ,  4D020AA08 ,  4D020BA23 ,  4D020BC10 ,  4D020CB25 ,  4D020CC12 ,  4D020CD10 ,  4D037AA15 ,  4D037AB02 ,  4D037BA21 ,  4D037BB06