特許
J-GLOBAL ID:200903089124072430
位置測定装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
大西 正悟
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-101450
公開番号(公開出願番号):特開2008-256639
出願日: 2007年04月09日
公開日(公表日): 2008年10月23日
要約:
【課題】測定精度を向上させた位置測定装置を提供する。【解決手段】本発明に係る位置測定装置は、エッジ位置算出部6が、ラインセンサ2によりそれぞれ検出されたエッジ部8a近傍の輝度情報に基づいて、被測定物8の複数のエッジ位置を算出し、算出した被測定物8の複数のエッジ位置から所定の近似を行って、被測定物8のエッジ部8aの位置形状を算出するとともに、複数のエッジ位置に対する位置形状の残差を、ラインセンサ2においてエッジ部8aが検出される部分の補正量として算出し、算出した補正量を用いて、ラインセンサ2においてエッジ部8aが検出される部分に応じ、算出する被測定物8のエッジ位置を補正する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
被測定物のエッジ部近傍における輝度を検出するラインセンサと、
前記ラインセンサにより検出された前記エッジ部近傍の輝度情報に基づいて前記被測定物のエッジ位置を算出するエッジ位置算出部とを備え、
前記エッジ部が前記ラインセンサの検出範囲を少なくとも長手方向に通過するように、前記被測定物を前記ラインセンサに対して相対移動させる駆動部が設けられ、
前記ラインセンサは、前記ラインセンサの検出範囲を少なくとも長手方向に通過する前記エッジ部近傍における輝度をそれぞれ検出し、
前記エッジ位置算出部は、前記ラインセンサによりそれぞれ検出された前記エッジ部近傍の輝度情報に基づいて、前記被測定物の複数のエッジ位置を算出し、
算出した前記被測定物の複数のエッジ位置から所定の近似を行って、前記被測定物のエッジ部の位置形状を算出するとともに、前記複数のエッジ位置に対する前記位置形状の残差を、前記ラインセンサにおいて前記エッジ部が検出される部分の補正量として算出し、
算出した前記補正量を用いて、前記ラインセンサにおいて前記エッジ部が検出される部分に応じ、算出する前記被測定物のエッジ位置を補正することを特徴とする位置測定装置。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (13件):
2F065AA12
, 2F065AA51
, 2F065BB01
, 2F065BB03
, 2F065FF02
, 2F065FF04
, 2F065HH03
, 2F065JJ02
, 2F065JJ25
, 2F065MM03
, 2F065MM04
, 2F065QQ18
, 2F065QQ31
引用特許:
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