特許
J-GLOBAL ID：200903089127776810
エキシマレーザーによるポリエチレン製品の光架橋
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西山 聞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-342528
公開番号（公開出願番号）：特開平7-165934
出願日： 1993年12月13日
公開日（公表日）： 1995年06月27日
要約：
【要約】【目的】 短時間で効率よく架橋反応を起こすと共に、製造コストを低減し、しかも光開始剤の濃度を調整してポリエチレン製品Wの厚みに対する架橋反応の及ぶ深さを任意に調整可能とする。【構成】 ベンゾフェノン系の光開始剤を所定濃度添加したポリエチレン製品にエキシマレーザーを照射する。
請求項（抜粋）：
ポリエチレン原料にベンゾフェノン、4ークロロベンゾフェノン等のベンゾフェノン系の光開始剤を所定濃度で添加し、押出成形機によりシート状または発泡状のポリエチレン製品となし、該ポリエチレン製品にエキシマレーザーを照射したことを特徴とするエキシマレーザーによるポリエチレン製品の光架橋。
IPC (3件)：
C08J 3/28 CES
, C08J 7/00 304
, C08L 23:04
