特許

J-GLOBAL ID：200903089133071292

電子線書込みシステムにおける電子・電子相互作用の効果を解析する方法および装置

発明者： クリストファー・フレデリック・ロビンソン ,  ヴェルナー・シュティッケル
出願人/特許権者： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
代理人 (1件)： 坂口 博 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-008652
公開番号（公開出願番号）：特開平10-229046
出願日： 1998年01月20日
公開日（公表日）： 1998年08月25日
要約：

【要約】【課題】 上記その他の目的は、電子線書込みシステムの電子・電子相互作用の効果を解析するための方法およびシステム【解決手段】 第1および第2の試験焦点板は異なる開放領域を有する。試験表面上に第1のパターンを形成するために、電子線が第1の試験焦点板中を通過する。次いで電子線は試験表面上に第2のパターンを形成するために第2の試験焦点板を通して向けられる。試験焦点板の開放領域が異なるため、電子線が第1の試験焦点板を通過するときと第2の試験焦点板を通過するときで電子線の電流は異なる。形成されたパターンの解像度に対する電子線の異なる電流の効果を評価するために、第1の形成されたパターンの解像度を第2の形成されたパターンの解像度と比較する。

請求項（抜粋）：

電子線書込みシステムにおける電子・電子相互作用の効果を解析するための方法であって、それぞれの試験焦点板が開口のパターンを有し、第1の試験焦点板の開口が第1の全領域を有し、第2の焦点板の開口が第2の全領域を有する、第1および第2の試験焦点板を提供するステップと、電子線を発生するステップと、試験表面上に、第1のパターンを形成するために、電子線を第1の試験焦点板を通して試験表面上に送り、かつ試験表面上に第2のパターンを形成するために、電子線を第2の試験焦点板を通して試験表面上に送り、前記形成されたパターンのそれぞれがある解像度を有し、電子線が第1の試験焦点板を通して送られた時に第1の電流を形成し、第2の試験焦点板を通して送られた時に異なる第2の電流を形成するステップと、形成パターンの解像度に対する電子線の電流の効果を評価するために、第1の形成パターンを第2の形成パターンの解像度と比較するステップとを含む方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521 ,  H01J 37/305

FI (4件)：

H01L 21/30 541 N ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521 ,  H01J 37/305 B

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 電子線描画装置及び描画方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-291830   出願人：株式会社日立製作所