特許
J-GLOBAL ID：200903089143963850
パターン生成方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岡田 守弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-100393
公開番号（公開出願番号）：特開平9-115907
出願日： 1996年04月22日
公開日（公表日）： 1997年05月02日
要約：
【要約】【課題】 本発明は、パターン生成方法に関し、イオンビームを試料面に照射しつつ導電性の被膜を生成する化合物ガスおよび絶縁性の被膜を生成する化合物ガスを順次試料面に吹きつけ、導電性のパターンと絶縁性のパターンを容易かつ迅速に生成することを目的とする。【解決手段】 表示装置上に表示されている表示情報に基づいて新たに導電性のパターンあるいは新たに絶縁性のパターンを生成しようとする領域に対してイオンビームを照射しつつガス吹きつけ装置を用いて分解して導電性のパターンあるいは分解して絶縁性のパターンを生成する化合物ガスを吹きつけて新たな導電性のパターンと新たな絶縁性のパターンとを積層して生成するパターン生成方法である。
請求項（抜粋）：
細く絞られた態様で試料面を照射するイオンビームと、該イオンビームを偏向して試料面を走査する走査手段と、該走査手段を用いてイオンビームを試料面に走査することによって当該試料から放射あるいは当該試料に吸収される荷電粒子に関する情報を検出する荷電粒子検出器と、該荷電粒子検出器を用いて検出された荷電粒子によって生成された像を表示する表示装置とを備えた装置において、前記イオンビームによって照射されている試料面に対して複数個のノズルから夫々異なるガスを必要に応じて吹きつけ得るよう構成したガス吹きつけ装置を備え、前記表示装置上に表示されている表示情報に基づいて新たに導電性のパターンあるいは新たに絶縁性のパターンを生成しようとする領域に対して前記イオンビームを照射しつつ前記ガス吹きつけ装置を用いて分解して導電性のパターンあるいは分解して絶縁性のパターンを生成する化合物ガスを吹きつけて新たな導電性のパターンと新たな絶縁性のパターンとを積層する態様で生成することを特徴とするパターン生成方法。
IPC (5件)：
H01L 21/3205
, H01J 37/317
, H01L 21/205
, H01L 21/316
, H01L 21/66
H01L 21/88 B
, H01J 37/317 D
, H01L 21/205
, H01L 21/316 X
, H01L 21/66 C
