特許

J-GLOBAL ID：200903089159957698

超臨界反応装置、超臨界流体の回収方法、およびこれを用いた電気光学パネルの製造方法

発明者： 矢嶋 広幸
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 川▲崎▼ 研二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-042502
公開番号（公開出願番号）：特開2004-249220
出願日： 2003年02月20日
公開日（公表日）： 2004年09月09日
要約：

【課題】超臨界流体の回収率を高めた超臨界反応装置を提供すること。【解決手段】本発明に係る超臨界反応装置100は、圧力タンク10から供給される超臨界流体を導く管L2に接続された洗浄容器14と、洗浄容器14における反応処理の完了に伴って流入する超臨界流体を含む流入物を降圧し、気体および液体に分離する気液分離部20と、この流入物を、洗浄容器14における反応期間のうち所定時点以後、気液分離部20を介さず、管L4を介して圧力タンク10に導く切替部30とを有する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

超臨界流体を供給する流体供給手段と、 前記流体供給手段から供給される超臨界流体の反応対象物を設置する反応容器と、 前記反応容器における反応処理の完了に伴って流入する超臨界流体を含む流入物を降圧し、気体および液体に分離する気液分離手段と、 前記気液分離手段により分離された気体を、前記流体供給手段に導く第1導通手段と、 前記反応容器から流入する流入物を、該反応容器における反応処理期間のうち所定時点以後、前記第1導通手段を介さずに、前記流体供給手段に導く第2導通手段と を有することを特徴とする超臨界反応装置。

IPC (6件)：

B01J3/00 ,  B01D11/00 ,  B01J3/02 ,  B08B7/00 ,  G02F1/13 ,  G02F1/1333

FI (6件)：

B01J3/00 A ,  B01D11/00 ,  B01J3/02 A ,  B08B7/00 ,  G02F1/13 101 ,  G02F1/1333 500

Fターム (21件)：

2H088FA21 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H088MA16 ,  2H090HC18 ,  2H090JC19 ,  2H090JC20 ,  3B116AA02 ,  3B116AB23 ,  3B116BB01 ,  3B116BB11 ,  3B116BB75 ,  3B116CD42 ,  3B116CD43 ,  4D056AB17 ,  4D056AC21 ,  4D056BA16 ,  4D056CA13 ,  4D056CA21 ,  4D056DA01 ,  4D056DA02