特許

J-GLOBAL ID：200903089166692454

プラズマ処理装置

発明者： 青木 誠
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社 ,  東京エレクトロン山梨株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-188172
公開番号（公開出願番号）：特開平9-017850
出願日： 1995年06月30日
公開日（公表日）： 1997年01月17日
要約：

【要約】【目的】 静電チャックシート表面に形成される伝熱ガス吹出孔の位置ずれを抑制することにより、静電チャックシートの耐用期間の向上を図るとともに、被処理体の安定したプラズマ処理を行うことを可能とする。【構成】 下部電極3の上面に静電チャックシート15を貼り付けた後に、下部電極3に形成されている伝熱ガス供給孔19の位置に合わせて、静電チャックシート15に伝熱ガス吹出孔を垂直針40等を用いて形成する。

請求項（抜粋）：

処理容器内に被処理体をクーロン力で吸着する静電チャックシートを具備し、プラズマを処理容器内に生成する電極を有するプラズマ処理装置であって、この電極には上記静電チャックシートに向って伝熱ガスを供給する伝熱ガス供給孔が設けられ、上記静電チャックシートには上記供給孔から被処理体の裏面側に上記伝熱ガスを供給する伝熱ガス吹出孔が設けられ、この伝熱ガス吹出孔は上記電極に上記静電チャックシートを装着した後に形成されたことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (5件)：

H01L 21/68 ,  B23Q 3/15 ,  C23C 16/44 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065

FI (5件)：

H01L 21/68 R ,  B23Q 3/15 D ,  C23C 16/44 D ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 C

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 高密度プラズマに使用可能な静電チャック
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-302845   出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
• 真空処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-166186   出願人：東京エレクトロン株式会社