特許
J-GLOBAL ID：200903089168488463
フッ化物薄膜の製造方法及びフッ化物薄膜
発明者：
,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-144471
公開番号（公開出願番号）：特開平9-324262
出願日： 1996年06月06日
公開日（公表日）： 1997年12月16日
要約：
【要約】【課題】 膜損失が少なく且つ耐環境性の良好なフッ化物薄膜(光学薄膜)を効率良く製造することができる。【解決手段】 アーク放電型のプラズマ生成手段50を用いプラズマ流13を真空容器6内に導入し、容器6内をプラズマ雰囲気とする。プラズマ中の電子(100eV以下のエネルギー)を坩堝35に載置された蒸発材料(フッ化物)に照射する。坩堝35から蒸発したフッ化物をプラズマでイオン化し、プラズマエネルギーが50eV以下の基板12上においてフッ化物を成膜する。このように、蒸発材料を100eV以下の低エネルギー粒子で照射して蒸発させるので、蒸着粒子からのフッ素の解離を防止できる。更に、基板12上のプラズマエネルギーを50eV以下として成膜しているので、フッ素による基板12の損傷もほとんどなく、しかもプラズマエネルギーにより、緻密で均質な膜が得られる。
請求項（抜粋）：
アーク放電型プラズマ生成装置を用いプラズマ雰囲気中で基板上にフッ化物の薄膜を成膜する製造方法において、蒸発材料に100eV以下のエネルギーの粒子を照射して蒸発させると共に、前記基板上のプラズマエネルギーを50eV以下にして成膜するようにしたことを特徴とするフッ化物薄膜の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 14/24 F
, C23C 14/06 G
