特許
J-GLOBAL ID:200903089177197030

細胞破壊方法および装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 吉田 研二 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-143719
公開番号(公開出願番号):特開平10-328316
出願日: 1997年06月02日
公開日(公表日): 1998年12月15日
要約:
【要約】【課題】 より低いエネルギー量の放射線で標的細胞を破壊する方法を提供する。【解決手段】 酸化チタン粒子懸濁液15が注入された癌組織14に放射線を放射する細胞破壊装置10は、放射線治療室の天井等に固定された支持部18と、この支持部に移動自在に支持された照射部20とから構成されている。照射部20の内部には、γ線源を備えた線源部28が設けられ、また、照射部20下端面には、線源部28からの放射線を照射するための照射窓34が形成されている。この照射窓34には、その開口を調節するコリメータ36が設けられている。線源部28からの放射線を遮蔽する放射線照射シャッタ38は、スライド部40が線源部28と照射窓34とを結ぶ領域上にスライド突出することにより線源部28からの放射線を遮蔽する。また、照射部28の内部に設けられた可視光ランプ42は、可視光により患者12を照らし、照射範囲として確認する。
請求項(抜粋):
細胞の集合体中の標的細胞を選択的に破壊する方法であって、標的細胞に半導体粒子懸濁液を注入する工程と、半導体懸濁液注入後、標的細胞に放射線を照射する工程と、を含む細胞破壊方法。
引用特許:
出願人引用 (1件)

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