指向性エネルギーアシスト真空微細エンボス加工

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：三好秀和 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-548153
公開番号（公開出願番号）：特表2002-514530
出願日： 1999年05月05日
公開日（公表日）： 2002年05月21日
要約：

【要約】真空室(7)中での連続製造法に利用される、指向性エネルギー支援微細エンボス加工機械/ステーションの種々形態、及びその方法で作製されるウエブ構造の生産物(4)(光学ディスク、カード、テープ、ホログラム反射体、ディフューザー、バイナリ光学素子、等)が開示されている。この形態は、単一基材(4)表面に光学フィーチャをエンボス加工するための単一機械ロールからロール方式(2,3)を備えることが出来、適切な金属、誘電体、半導体、ポリマー、及びその他の被覆を全て真空室(7)中で塗膜できる。

請求項（抜粋）：

以下の工程から成る、連続状フィルム基材から光学記憶媒体及び/又は光学素子を製造する連続的方法。 (A)局所環境を排気すること。 (B)前記局所環境内で、前記基材のエンボス加工を行なうこと。 (C)前記局所環境内で、エンボス加工された前記基材に被覆処理を行なうこと。

IPC (6件)：

B29C 59/04 , G02B 5/18 , G02B 5/32 , G03H 1/18 , G11B 7/26 521 , B29L 11:00

FI (6件)：

B29C 59/04 Z , G02B 5/18 , G02B 5/32 , G03H 1/18 , G11B 7/26 521 , B29L 11:00

Fターム (23件)：

2H049AA07 , 2H049AA13 , 2H049AA39 , 2H049AA43 , 2H049AA55 , 2H049CA05 , 2H049CA11 , 2H049CA28 , 2K008AA04 , 2K008AA15 , 2K008BB05 , 2K008GG05 , 4F209AH73 , 4F209PA03 , 4F209PB02 , 4F209PC05 , 4F209PN06 , 4F209PN07 , 4F209PQ20 , 4F209PW43 , 5D121DD06 , 5D121DD13 , 5D121DD17

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