ホットガスによる熱処理品のガス冷却方法及び装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：三好秀和 (外8名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-325248
公開番号（公開出願番号）：特開2003-129127
出願日： 2001年10月23日
公開日（公表日）： 2003年05月08日
要約：

【要約】【課題】不活性ガスを変態点温度に維持したホットガスを用い、熱処理品を過冷却することなく、十分な等温保持を行って、歪のない高品質の冷却処理を行う。【解決手段】熱処理炉本体2の内部へホットガス生成装置3で変態点温度に加熱した不活性ガス(ホットガス)を所定のコントロール下で吹込み、過冷却することなく等温保持し、その後常温方向へ冷却する。冷却ガスの均一な分子密度及び流速で冷却するための分散方式を定め、変態点温度までの冷却時間の誤差を許容値Δto 内に管理する。

請求項（抜粋）：

高温下で熱処理された熱処理品に不活性ガスを吹付けて急冷し、変態点温度で等温保持して後冷却する熱処理品のガス冷却方法において、前記不活性ガスを前記変態点温度に調整して成るホットガスを生成し、前記ホットガスを前記熱処理品に吹付けつつ前記熱処理品の環境を前記ホットガスに馴染ませ、前記熱処理品が前記変態点温度に等温化されて後、所要時間保持し、その後次の冷却工程へ移行することを特徴とするホットガスによる熱処理品のガス冷却方法。

IPC (6件)：

C21D 1/00 119 , C21D 1/18 , C21D 1/74 , C21D 1/773 , F27D 7/02 , F27D 7/04

FI (6件)：

C21D 1/00 119 , C21D 1/18 X , C21D 1/74 K , C21D 1/773 J , F27D 7/02 A , F27D 7/04

Fターム (14件)：

4K034AA02 , 4K034CA05 , 4K034DA06 , 4K034DA08 , 4K063AA05 , 4K063AA15 , 4K063BA02 , 4K063BA03 , 4K063CA03 , 4K063DA05 , 4K063DA13 , 4K063DA26 , 4K063DA32 , 4K063DA33

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