特許
J-GLOBAL ID:200903089207793678

成膜用マスク、有機ELパネル、有機ELパネルの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 小橋 信淳 ,  小橋 立昌
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-074888
公開番号(公開出願番号):特開2004-281339
出願日: 2003年03月19日
公開日(公表日): 2004年10月07日
要約:
【課題】有機EL素子の発光領域を形成するにあたって、形成される発光領域の最外縁付近での表示性能劣化を防止する。【解決手段】成膜用マスク10は、発光領域形成部3R,3G,3Bを覆うように発光機能層を含む有機層の成膜パターンを形成するものであり、この成膜パターンに応じた開口部10Aを備えている。また、開口部10Aの最外縁より外側に、発光領域を形成する有機層の成膜に使用されない疑似開口部10Dを備えている。疑似開口部10Dは、発光領域の最外縁(表示領域)Eより外側の基板1上であって、封止用の接着剤形成領域Fより内側に、有機層の疑似パターン20を形成する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
一対の電極間に有機発光機能層を含む有機層が挟持された有機EL素子を基板上に形成する際に前記有機層のパターンを成膜する成膜用マスクであって、 前記有機EL素子の発光領域を形成する成膜パターンに応じた開口部を備えると共に、前記開口部の最外縁より外側に前記有機層の成膜に使用されない疑似開口部を備えることを特徴とする成膜用マスク。
IPC (4件):
H05B33/10 ,  C23C14/04 ,  H05B33/12 ,  H05B33/14
FI (4件):
H05B33/10 ,  C23C14/04 A ,  H05B33/12 B ,  H05B33/14 A
Fターム (11件):
3K007AB18 ,  3K007BA06 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4K029AA09 ,  4K029BA62 ,  4K029BB02 ,  4K029BC07 ,  4K029CA01 ,  4K029DB06 ,  4K029HA03
引用特許:
審査官引用 (6件)
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