特許

J-GLOBAL ID：200903089208276987

光学基板及びその製造方法

発明者： 清水 敦 ,  矢尾 敦
出願人/特許権者： オムロン株式会社
代理人 (1件)： 中野 雅房
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-001913
公開番号（公開出願番号）：特開2001-194508
出願日： 2000年01月07日
公開日（公表日）： 2001年07月19日
要約：

【要約】【課題】 製造歩留りを低下させることなく、マイクロレンズアレイ基板のスタック厚を薄くする。【解決手段】 スタンパ24と紫外線照射を用いてベースガラス22の上にレンズ樹脂層23を成形した後、レンズ樹脂層23の上に封止樹脂層27となる紫外線硬化型樹脂を滴下する。一方、カバーガラス28の内面には、スピナを用いて未硬化もしくは半硬化の樹脂を塗布することにより保護膜29を形成しておく。ついで、ベースガラス22の上方にカバーガラス28を重ねて押圧し、保護膜29とレンズ樹脂層23との間に紫外線硬化型樹脂を挟み込んで拡げ、封止樹脂層27を形成する。この後、封止樹脂層27に紫外線を照射して硬化させると共に保護膜29も完全硬化させ、マイクロレンズアレイ基板のウエハ30を作製する。ついで、ウエハ30の両面を研磨して平滑に仕上げる。

請求項（抜粋）：

第1の基材の上方に光学素子アレイ層を積層し、当該光学素子アレイ層の上方に少なくとも光学素子アレイ層の上方領域を平坦化する封止樹脂層を積層し、当該封止樹脂層の表面に前記光学素子アレイ層を保護するための保護膜を積層し、当該保護膜の上に第2の基材を積層したことを特徴とする光学基板。

IPC (4件)：

G02B 3/00 ,  B29D 11/00 ,  G02F 1/1335 ,  B29K105:32

FI (4件)：

G02B 3/00 A ,  B29D 11/00 ,  G02F 1/1335 ,  B29K105:32

Fターム (23件)：

2H091FA21Y ,  2H091FA29Y ,  2H091FC15 ,  2H091FC19 ,  2H091FC23 ,  2H091FC29 ,  2H091FD06 ,  2H091GA16 ,  2H091KA01 ,  2H091LA02 ,  2H091LA11 ,  2H091LA12 ,  4F213AA44 ,  4F213AD04 ,  4F213AG01 ,  4F213AG03 ,  4F213AH74 ,  4F213WA02 ,  4F213WA53 ,  4F213WA58 ,  4F213WA86 ,  4F213WF27 ,  4F213WF29