特許
J-GLOBAL ID:200903089215018780

誘導結合プラズマ装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 篠部 正治
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-051685
公開番号(公開出願番号):特開平11-251088
出願日: 1998年03月04日
公開日(公表日): 1999年09月17日
要約:
【要約】【課題】プラズマ形成条件が最適化され、エネルギ-効率が高く、かつ処理速度の速い誘導結合型プラズマ装置を得る。【解決手段】石英製の放電管1Aの内部にガス導入部4Aよりプラズマガスを導入し、放電管1Aの外側に巻装された高周波誘導コイル2Aに高周波電流を通電して高周波磁界を印加し、プラズマガスを熱プラズマ化するものにおいて、放電管1Aの内半径と高周波磁界の周波数の平方根との積が所定範囲の値となるように、放電管1Aの内半径を 8cmとし、MOSFETインバータ10よりなる高周波電源を用いて、高周波誘導コイル2Aに定格周波数 450kHz の高周波電流を通電することとする。
請求項(抜粋):
電気絶縁性の放電管と、放電管の外側に巻装された高周波誘導コイルと、放電管の一端に組み込まれてガス導入口を備えてなり、ガス導入口から放電管の内部へプラズマガスを導入し、高周波誘導コイルに高周波電流を通電して前記プラズマガスを熱プラズマ化する誘導結合プラズマ装置において、放電管の内半径a〔m〕と高周波誘導コイルに通電する高周波電流の周波数f〔Hz〕の平方根との積a×(f)1/2 が、 40 乃至 80 の範囲にあることを特徴とする誘導結合プラズマ装置。
引用特許:
審査官引用 (3件)

前のページに戻る