特許
J-GLOBAL ID：200903089231383618

ゴマージュ化粧料

発明者：
染谷 高士

染谷 高士 について

, 
川▲さき▼ 亜希子

川▲さき▼ 亜希子 について


出願人/特許権者：
株式会社コーセー

株式会社コーセー について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-300993
公開番号（公開出願番号）：特開2003-104868
出願日： 2001年09月28日
公開日（公表日）： 2003年04月09日
要約：
【要約】【課題】 経時保存安定性、特に高温での経時安定性に優れ、化粧料中に含まれるゴマージュ剤によるかすが出現するまでの時間が短く、使用性に優れたゴマージュ化粧料を提供する。【解決手段】 (A)皮膜形成性水溶性高分子 0.1質量%〜10質量%、(B)比表面積が100〜400m2/gかつ平均一次粒子径が7〜16nmである無水ケイ酸 0.01質量%〜5質量%を含有することを特徴とするゴマージュ化粧料。
請求項（抜粋）：
次の成分(A)、(B);(A)皮膜形成性水溶性高分子 0.1質量%〜10質量%(B)比表面積が100〜400m2/gかつ平均一次粒子径が7〜16nmである無水ケイ酸 0.01質量%〜5質量%を含有することを特徴とするゴマージュ化粧料。
IPC (2件)：
A61K 7/50 ,  A61K 7/02
FI (2件)：
A61K 7/50 ,  A61K 7/02 A
Fターム (34件)：
4C083AB032 ,  4C083AB171 ,  4C083AB172 ,  4C083AB432 ,  4C083AC102 ,  4C083AC121 ,  4C083AC122 ,  4C083AC172 ,  4C083AC352 ,  4C083AC422 ,  4C083AC442 ,  4C083AC482 ,  4C083AD011 ,  4C083AD092 ,  4C083AD172 ,  4C083AD262 ,  4C083AD282 ,  4C083AD301 ,  4C083AD302 ,  4C083AD532 ,  4C083BB36 ,  4C083BB41 ,  4C083BB48 ,  4C083CC07 ,  4C083CC23 ,  4C083DD12 ,  4C083DD22 ,  4C083DD23 ,  4C083DD28 ,  4C083DD31 ,  4C083DD41 ,  4C083EE01 ,  4C083EE06 ,  4C083EE07
引用特許：
審査官引用 (3件)
  • ゴマージュ化粧料
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-020302   出願人：株式会社資生堂
  • ゴマージュ化粧料
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-146287   出願人：花王株式会社
  • ゴマージュ化粧料
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-264360   出願人：株式会社資生堂
引用文献：
審査官引用 (3件)
  • 化粧品ハンドブック, 19961101, p.274
  • International Cosmetic Ingredient Dictionary, 1995, Sixth Edition, Volume 2, p.910
  • 化粧品ハンドブック, 19961101, p.274

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