特許

J-GLOBAL ID：200903089236521679

ガス分析計用前処理装置

発明者： 樽磨 恒雄 ,  間嶋 幸一
出願人/特許権者： ダイセル化学工業株式会社
代理人 (1件)： ▲吉▼川 俊雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-234960
公開番号（公開出願番号）：特開2001-059802
出願日： 1999年08月23日
公開日（公表日）： 2001年03月06日
要約：

【要約】【課題】 ガス分析計に導入する試料ガスに含まれる夾雑物の除去をより確実に、かつ長期間にわたって安定して行い得るガス分析計用前処理装置を提供する。【解決手段】 バブリングによって夾雑物を除去する際のバブラーノズル16の下端側に、頂部が尖頭形状で、この頂部から末広がり状の周面開口16bを設ける。これにより、夾雑物が周面開口16bの縁部内面に堆積付着することが抑えられ、夾雑物で試料ガスの通過開口が塞がることが防止される。この結果、試料ガスを微細な気泡Bとすることによって夾雑物Cをより確実に除去することが可能であり、かつ、このような夾雑物の除去洗浄操作を安定して行わせることができる。したがって、長期間にわたってガス分析計の指示値が安定し、ガス成分の濃度を正確に測定することができる。

請求項（抜粋）：

洗浄液を収容するバブラー槽と、試料ガスを上方から洗浄液中へと導いて洗浄液中に放出させる管状のバブラーノズルとを備えるバブラーが設けられたガス分析計用前処理装置であって、バブラーノズルにおける下端側に、下端開口を囲う周縁から上方に凹入する切欠状の周面開口が設けられ、該周面開口は、頂部が尖頭形状で、かつ、この頂部から末広がりの形状に形成されていることを特徴とするガス分析計用前処理装置。

IPC (2件)：

G01N 1/22 ,  G01N 27/74

FI (3件)：

G01N 1/22 S ,  G01N 1/22 P ,  G01N 27/74

Fターム (4件)：

2G053AA05 ,  2G053AB17 ,  2G053BA06 ,  2G053BB01