特許
J-GLOBAL ID：200903089241843625

パターン形成体の製造方法

発明者：
小林 弘典

小林 弘典 について

, 
鵜野 雄介

鵜野 雄介 について


出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について


代理人 (2件)： 山下 昭彦 ,  岸本 達人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-117162
公開番号（公開出願番号）：特開2005-300926
出願日： 2004年04月12日
公開日（公表日）： 2005年10月27日
要約：
【課題】 本発明は、カラーフィルタの製造等に用いることが可能な、表面に特性が変化したパターンが形成されたパターン形成体を、効率よく大面積に製造する方法を提供することを主目的としている。【解決手段】 上記目的を達成するために、本発明は、基材と、前記基材上に形成され、エネルギー照射に伴う光触媒の作用により特性が変化する特性変化層とを有するパターニング用基板を調製するパターニング用基板調製工程と、 少なくとも光触媒を含有する光触媒含有層および基体を有する光触媒含有層側基板の前記光触媒含有層と、前記特性変化層とを所定の間隙となるように配置し、0.1mW/cm2〜10mW/cm2の強度でエネルギーを照射し、前記特性変化層の特性が変化した特性変化パターンを形成するエネルギー照射工程と を有することを特徴とするパターン形成体の製造方法を提供する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基材と、前記基材上に形成され、エネルギー照射に伴う光触媒の作用により特性が変化する特性変化層とを有するパターニング用基板を調製するパターニング用基板調製工程と、 少なくとも光触媒を含有する光触媒含有層および基体を有する光触媒含有層側基板の前記光触媒含有層と、前記特性変化層とを所定の間隙となるように配置し、0.1mW/cm2〜10mW/cm2の強度でエネルギーを照射し、前記特性変化層の特性が変化した特性変化パターンを形成するエネルギー照射工程と を有することを特徴とするパターン形成体の製造方法。
IPC (5件)：
G02B5/20 ,  H05B33/10 ,  H05B33/12 ,  H05B33/14 ,  H05K3/10
FI (5件)：
G02B5/20 101 ,  H05B33/10 ,  H05B33/12 E ,  H05B33/14 A ,  H05K3/10 C
Fターム (15件)：
2H048BA43 ,  2H048BA45 ,  2H048BA47 ,  2H048BA64 ,  2H048BB02 ,  2H048BB42 ,  3K007AB18 ,  3K007BB06 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  5E343AA17 ,  5E343AA23 ,  5E343CC20 ,  5E343GG08 ,  5E343GG11
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)

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