特許
J-GLOBAL ID：200903089253129812
位置検出方法、及び位置検出装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-245800
公開番号（公開出願番号）：特開平9-092596
出願日： 1995年09月25日
公開日（公表日）： 1997年04月04日
要約：
【要約】【課題】 単色の照明ビームをウェハ上の回折格子に照射したときに発生する回折光を検出する位置検出において、回折格子の振幅反射率の非対称性による検出誤差を低減する。【解決手段】 ウェハ上の回折格子マークから発生する1次回折光と2次回折光との各々を光電検出した第1の信号と第2の光電信号の各振幅値に応じた重み係数A1、A2を求め、第1の光電信号を利用して算出される格子マークの位置X1と第2の光電信号を利用して算出される格子マークの位置X2とを、重み係数A1、A2を使って加重平均演算することで、格子マークの振幅反射率の非対称性による悪影響を低減した最も確からしい格子マーク位置を決定する。
請求項（抜粋）：
位置検出すべき基板上に所定のピッチで形成された回折格子状の格子パターンに可干渉性の照明ビームを照射し、前記格子パターンから発生する複数の回折光のうちの特定の回折光の強度変化に応じて前記格子パターンの周期方向の位置を検出する方法において、前記基板上の格子パターンから発生した±n次の回折光を第1参照格子上に結像させ、該第1参照格子から生じる第1の干渉光を第1光電素子で受光することによって、前記基板上の格子パターンと前記第1参照格子との周期方向の相対位置関係に応じた第1の光電信号を発生させるとともに、前記基板上の格子パターンから発生した±m(m≠n)次の回折光を第2参照格子上に結像させ、該第2参照格子から生じる第2の干渉光を第2光電素子で受光することによって、前記基板上の格子パターンと前記第2参照格子との周期方向の相対位置関係に応じた第2の光電信号を発生させる段階と;前記基板の格子パターンと前記第1参照格子を相対的にピッチ方向に移動させたときの前記第1の光電信号の振幅値に対応した第1振幅情報と、前記基板の格子パターンと前記第2参照格子を相対的にピッチ方向に移動させたときの前記第2の光電信号の振幅値に対応した第2振幅情報とを検知する段階と;前記第1の光電信号に基づいて前記基板の格子パターンのピッチ方向に関する第1の位置を検知するとともに、前記第2の光電信号に基づいて前記基板の格子パターンのピッチ方向に関する第2の位置を検知する段階と;該検知された第1の位置と第2の位置とを前記第1振幅情報と第2振幅情報に応じた重みを付して平均化することによって、前記基板の格子パターンの確定された位置を算出する段階とを含むことを特徴とする位置検出方法。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, G01B 11/00
, G03F 7/20 521
, G03F 9/00
H01L 21/30 525 E
, G01B 11/00 G
, G03F 7/20 521
, G03F 9/00 H
, H01L 21/30 522 D
