特許
J-GLOBAL ID:200903089271724680

結晶配向セラミックスの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 上野 登
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-124224
公開番号(公開出願番号):特開2002-321974
出願日: 2001年04月23日
公開日(公表日): 2002年11月08日
要約:
【要約】【課題】 等方性ペロブスカイト型化合物からなる高配向度の結晶配向セラミックスが製造可能であり、かつ、結晶配向セラミックス中に含まれるAサイト元素の組成制御が容易な結晶配向セラミックスの製造方法を提供すること。【解決手段】 ビスマス層状チタン酸化合物からなり、かつ、その発達面が等方性ペロブスカイト型化合物の擬立方{100}面と格子整合性を有する板状粉末と、この板状粉末と反応して等方性ペロブスカイト型化合物と酸化ビスマスを含む余剰成分とを生成するペロブスカイト生成原料とを混合する(混合工程)。次に、得られた混合物を板状粉末が配向するように成形する(成形工程)。さらに、得られた成形体に含まれる板状粉末とペロブスカイト生成原料とを反応させ、この反応と同時に、又は、反応後に、反応により生成した余剰成分を熱的又は化学的に除去する(反応・除去工程)。
請求項(抜粋):
ビスマス層状チタン酸化合物からなり、かつ、その発達面が等方性ペロブスカイト型化合物の擬立方{100}面と格子整合性を有する板状粉末と、該板状粉末と反応して前記等方性ペロブスカイト型化合物及び酸化ビスマスを含む余剰成分を生成するペロブスカイト生成原料とを混合する混合工程と、該混合工程で得られた混合物を前記板状粉末が配向するように成形する成形工程と、該成形工程で得られた成形体に含まれる前記板状粉末と前記ペロブスカイト生成原料との反応、及び、反応により生成した前記余剰成分の除去を行う反応・除去工程とを備えた結晶配向セラミックスの製造方法。
IPC (2件):
C04B 35/46 ,  H01L 41/22
FI (2件):
C04B 35/46 J ,  H01L 41/22 Z
Fターム (13件):
4G031AA06 ,  4G031AA11 ,  4G031AA35 ,  4G031BA10 ,  4G031CA01 ,  4G031CA02 ,  4G031GA01 ,  4G031GA06 ,  4G031GA08 ,  4G031GA09 ,  4G031GA11 ,  4G031GA15 ,  4G031GA16
引用特許:
審査官引用 (5件)
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