特許
J-GLOBAL ID：200903089273680183
リソグラフィーエッチング方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三俣 弘文
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-122819
公開番号（公開出願番号）：特開平6-250374
出願日： 1992年04月17日
公開日（公表日）： 1994年09月09日
要約：
【要約】【目的】 プラズマエッチングにおける選択性が高い、クロムからなるリソグラフィ方法を提供する。【構成】 酸素および塩素をエッチング剤化学種として含む混合気体によってエッチングすることのできる、例えばクロムまたはクロム含有化合物層などの物質層11のパターニングが珪素またはゲルマニウムを含むポリマーのようなパターン化有機金属レジスト層12を用いて行われる。前記の物質層の酸素と塩素の混合気体による異方性反応性イオンエッチング(RIE)中に、前記の有機金属レジスト層のパターニング後、前記の物質層のRIEに先立ち酸素イオンによる有機金属レジストの早期ボンバードを行うことによって、レジスト層のエッチング速度に対する物質層のエッチング速度の比を向上させー即ちエッチング選択性を向上させる。
請求項（抜粋）：
a)第一の物質層を形成するステップと、b)基本的に均一な組成を持つ有機金属レジスト層を前記の物質層の表面に形成するステップと、c)前記の有機金属レジスト層をパターン化するステップと、それにより、パターン化した有機金属レジスト層(12)を形成し、それによって前記の物質層の表面の一部を露出部分とする、d)前記の第一の物質層の表面の露出部分に酸素と塩素から成る混合気体によって異方性エッチングするステップと、それにより、第一の物質層の露出部分をエッチングし、前記の第一の物質のパターン化層(41)を形成する、とからなる、酸素と塩素を含む混合気体によりエッチングを行うことのできる第一の物質層(11)をリソグラフィーエッチングする方法において、ステップ(c)とステップ(d)の間に酸素イオンによる前記のパターン化された有機金属レジスト層のボンバードステップを設けることを特徴とするリソグラフィーエッチング方法。
IPC (4件)：
G03F 1/08
, G03F 7/26 511
, H01L 21/027
, H01L 21/302
