特許
J-GLOBAL ID:200903089277702700

表面疵検査装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 生形 元重 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-286067
公開番号(公開出願番号):特開平8-122275
出願日: 1994年10月25日
公開日(公表日): 1996年05月17日
要約:
【要約】【目的】 正反射光と散乱光を用いる表面疵検査装置において、被検査材の鏡面正が高く十分な散乱光を期待できない場合にも、高精度な検査を行う。【構成】 正反射光の信号Vs に基づいて、被検査材の検査範囲に対応したゲート信号fi (x) を発生させる。そのゲート信号fi (x) により、散乱光の信号Vr に対して検査範囲の設定を行う。正反射光の信号Vs の値(光量Vss)を予め設定した全体光量Vall から減算して、散乱光の光量Vrsを算出する。その光量Vrsから求めたAGC増幅率kr を用いてゲイン制御を行う。散乱光の信号Vrが小さい場合もその影響を回避できる。
請求項(抜粋):
被検査材料の表面に光を直線状に照射する光源と、前記材料の表面からの反射光を正反射光および散乱光の両方について独立に受光し、正反射光および散乱光の各光量分布を検出するセンサ部と、センサ部で得られた正反射光の信号に基づいてその信号に対する検査範囲の設定およびゲイン制御を行うと共に、正反射光の信号から得た検査範囲を散乱光の信号に対する検査範囲としてその検査範囲の設定を行い、且つ、正反射光の光量を予め設定した全体光量から減算して散乱光の光量を推定し、その推定光量に基づいて散乱光の信号に対するゲイン制御を行う信号前処理部と、信号前処理部より得られる正反射光および散乱光についての各信号を2次元に画像展開して疵を検出し疵の特徴量を抽出する画像処理部と、抽出した疵の特徴量から判定ロジックに従って疵の種別・等級等を判定する疵判定部とを備えたことを特徴とする表面疵検査装置。
IPC (4件):
G01N 21/89 ,  G01B 11/30 ,  G01N 21/88 ,  G06T 7/00

前のページに戻る