特許
J-GLOBAL ID:200903089286939704

分極反転ドメイン及び光学素子、並びにこれらの作製方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 逢坂 宏
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-065213
公開番号(公開出願番号):特開平11-258646
出願日: 1998年03月16日
公開日(公表日): 1999年09月24日
要約:
【要約】【課題】 分極反転ドメインをこれまでにはない独得の領域(特に深さ)に形成した構造及び素子と、これらの再現性の良い作製方法を提供すること。【解決手段】 強誘電性基板1の少なくとも一部に、その一方の主面3から基板厚さtの全体もしくはほぼ全体に亘る深さに分極反転ドメイン2を形成した後、強誘電性基板1をそのキュリー温度以下の温度に所定時間保持して、分極反転ドメイン2を強誘電性基板1の主面3から基板厚さtの1/2以上、1未満の深さdとする。
請求項(抜粋):
強誘電性基体の一方の主面から基体厚さの1/2以上、1未満の深さに亘って形成された分極反転ドメイン。
IPC (5件):
G02F 1/37 ,  G02B 6/12 ,  G02B 6/13 ,  G02F 1/29 ,  G02F 1/35 505
FI (5件):
G02F 1/37 ,  G02F 1/29 ,  G02F 1/35 505 ,  G02B 6/12 H ,  G02B 6/12 M

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