特許
J-GLOBAL ID:200903089288948190

ドライエッチング方法及びドライエッチング装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高月 亨
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-268389
公開番号(公開出願番号):特開平7-106312
出願日: 1993年09月30日
公開日(公表日): 1995年04月21日
要約:
【要約】【目的】 被エッチング材の種類によらず、常に適正な条件でエッチングを行うことができ、よって適正なエッチングが達成できて、例えば良好なエッチング形状を容易に得ることができ、汎用性に富むドライエッチング方法及びドライエッチング装置を提供する。【構成】 被エッチング材をドライエッチングする際、?@マスク開口率等による被エッチング面積に応じてI、エッチング温度を変化させてII、エッチングを行う。?Aエッチング生成物に関するモニタ量に基づいてエッチング温度を変化させてエッチングを行う。?Bエッチング装置に、エッチング生成物に関するモニタ量を検出するモニタ手段と、得られたモニタ量に基づいてこれをエッチング温度にフィードバックする制御機構を備える。
請求項(抜粋):
被エッチング材をエッチングするドライエッチング方法であって、被エッチング面積に応じてエッチング温度を変化させてエッチングを行うことを特徴とするドライエッチング方法。
FI (2件):
H01L 21/302 A ,  H01L 21/302 E
引用特許:
審査官引用 (8件)
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