電子線又はX線用ポジ型レジスト組成物

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小栗昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-296777
公開番号（公開出願番号）：特開2002-107920
出願日： 2000年09月28日
公開日（公表日）： 2002年04月10日
要約：

【要約】【課題】電子線又はX線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、電子線又はX線の使用に対して感度と解像度、レジスト形状の特性を満足し、更に半導体素子の量産性に適合した高加速電圧の次世代EB照射装置(スループット向上を目指した、EBブロック照射機又はEBステッパー(逐次縮小投影照射機))に対応できる、高感度を示す電子線又はX線用ポジ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】 (A)特定構造のN-オキシイミドスルホニル基を有する繰り返し単位を構成成分とする樹脂を含有する、電子線又はX線用ポジ型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A)下記一般式(Ia)又は(Ib)で示されるN-オキシイミドスルホニル基を有する繰り返し単位を構成成分とする樹脂を含有する、電子線又はX線用ポジ型レジスト組成物。【化1】式中、R00、R0、R1、R2、R3は、同一でも異なっていても良く、水素原子、置換基を有していても良い、1価又は2価の芳香族、脂肪族、又は脂環族炭化水素基、ハロゲン原子、アシルオキシ基を表す。Zは、-C(R01)(R02)-、-O-、-N(R03)-を表す。R01〜R03は、水素原子、置換基を有していてもよい、1価の芳香族、脂肪族、又は脂環族炭化水素基を表す。またR00、R0、R1、R2の2つが結合し、炭素-炭素結合、又はヘテロ原子を含んでも良い5〜7員環の芳香族、又は脂環族炭化水素を形成しても良い。更に、一般式(Ib)において、R1あるいはR2、R00あるいはR0及びZの群うち2つ又は3つが結合して環を形成しても良い。

IPC (7件)：

G03F 7/004 503 , G03F 7/004 501 , C08K 5/00 , C08L 41/00 , C08L101/06 , G03F 7/039 601 , H01L 21/027

FI (7件)：

G03F 7/004 503 , G03F 7/004 501 , C08K 5/00 , C08L 41/00 , C08L101/06 , G03F 7/039 601 , H01L 21/30 502 R

Fターム (37件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AB16 , 2H025AC05 , 2H025AC06 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BF02 , 2H025BF11 , 2H025BF15 , 2H025BG00 , 2H025CC20 , 2H025FA17 , 4J002BC121 , 4J002BG071 , 4J002BG131 , 4J002EH097 , 4J002EL097 , 4J002EN028 , 4J002EN068 , 4J002ER008 , 4J002ER028 , 4J002EU048 , 4J002EU078 , 4J002EU118 , 4J002EU128 , 4J002EU238 , 4J002EV236 , 4J002EV256 , 4J002EV286 , 4J002EV296 , 4J002FD146 , 4J002FD207 , 4J002FD208 , 4J002GP03

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