特許
J-GLOBAL ID：200903089293045085

基板処理装置

発明者：
加護 由一

加護 由一 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 福島 祥人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-169753
公開番号（公開出願番号）：特開2000-012416
出願日： 1998年06月17日
公開日（公表日）： 2000年01月14日
要約：
【要約】【課題】 データ内容の変更が容易な処理レシピを用いた基板処理装置を提供する。【解決手段】 基板処理装置の制御部は、処理レシピ25に従って各動作部の動作を制御する。処理レシピ25には、各部の動作手順および動作条件が規定される。動作条件としては、各動作部の動作時間、動作の繰り返し数および供給する処理液の種別が規定される。動作条件には変数あるいは変数式を設定することができる。各変数に所定の数値データを与えることにより、単一の処理レシピ25を利用して各動作部に異なる処理を行わせることができる。
請求項（抜粋）：
基板に所定の処理を行うために動作する動作部と、前記動作部の動作を制御するための複数のデータを有する処理レシピを格納する格納手段と、前記格納手段に格納された前記処理レシピに基づいて前記動作部の動作を制御する制御手段とを備え、前記処理レシピの前記複数のデータは、変数または変数式を含むことを特徴とする基板処理装置。
IPC (5件)：
H01L 21/027 ,  B05C 11/10 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/02 ,  H01L 21/68
FI (6件)：
H01L 21/30 569 C ,  B05C 11/10 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/02 Z ,  H01L 21/68 F ,  H01L 21/30 502 G
Fターム (16件)：
2H096AA24 ,  2H096AA25 ,  2H096AA27 ,  2H096GA29 ,  4F042AA07 ,  4F042BA00 ,  4F042CB08 ,  4F042CB19 ,  4F042EB00 ,  4F042EB19 ,  5F031CC02 ,  5F031KK06 ,  5F031MM11 ,  5F046DD01 ,  5F046JA27 ,  5F046LA19
引用特許：
審査官引用 (26件)
  • 特開平4-310266
  • リンス装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-177156   出願人：島田理化工業株式会社
  • 処理装置、洗浄処理装置およびそれらの画面処理方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-214121   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
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