特許
J-GLOBAL ID：200903089303268673
室温かつ低圧マイクロおよびナノ転写リソグラフィのためのテンプレート
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山川 政樹
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-566722
公開番号（公開出願番号）：特表2004-523906
出願日： 2001年10月12日
公開日（公表日）： 2004年08月05日
要約：
転写リソグラフィ・テンプレート、そのテンプレートを形成しおよび使用する方法、およびテンプレート・ホルダ装置が記述されている。転写リソグラフィ・テンプレートは表面に複数の凹所を備えたボディを有している。ボディは活性化光に対して透明である。複数の凹所の少なくともいくつかは約250nmより小さい寸法のフィーチャを形成している。テンプレートは活性化光に対して透明な物質を得、テンプレートの表面に複数の凹所を形成することによって形成される。いくつかのテンプレートはさらに一つのアラインメント・マークを含んでいる。転写リソグラフィは基板上に設けられた光硬化液体に転写層を形成するために使用される。使用中テンプレートはテンプレート・ホルダーに配置される。テンプレート・ホルダーはテンプレート、支持プレート、ボディを備え、そのボディに結合された少なくとも一つのピエゾ・アクチェータを受け入れるように構成された開口を備えている。ピエゾ・アクチェータは、使用中にテンプレートの物理的寸法を変えるように配置されている。
請求項（抜粋）：
第1の表面を備えたボディと、
第1の表面上の複数の凹所であって、凹所の少なくとも一部のフィーチャのサイズが約250nm未満である複数の凹所と、
ボディ上の少なくとも1つのアライメント・マークと
を備えた、活性化光に対して実質的に透明な転写リソグラフィ・テンプレート。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (3件)：
5F046BA02
, 5F046BA10
, 5F046CB17
