特許

J-GLOBAL ID：200903089332681008

レンズ基板の洗浄方法

発明者： 鈴木 博幸
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 山下 亮一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-156612
公開番号（公開出願番号）：特開2002-350601
出願日： 2001年05月25日
公開日（公表日）： 2002年12月04日
要約：

【要約】【目的】 レンズ基板洗浄後の表面の清浄度をほぼ理想状態にまでにすることができるレンズ基板の洗浄方法を提供すること。【構成】 CaF2 単結晶から成るレンズ基板の表面を所定の面形状に研磨した後、前記レンズ基板の表面を洗浄する洗浄工程の前処理として前記レンズ基板を酸処理する。

請求項（抜粋）：

CaF2 単結晶から成るレンズ基板の表面を所定の面形状に研磨した後、前記レンズ基板の表面を洗浄する洗浄工程の前処理として前記レンズ基板を酸処理することを特徴とするレンズ基板の洗浄方法。

IPC (2件)：

G02B 1/00 ,  B08B 3/08

FI (2件)：

G02B 1/00 ,  B08B 3/08 Z

Fターム (7件)：

3B201AA46 ,  3B201BB01 ,  3B201BB93 ,  3B201BB96 ,  3B201CA00 ,  3B201CC01 ,  3B201CC14