特許

J-GLOBAL ID：200903089344636164

ヘキサメチルベンゼンの製造方法

発明者： 土屋 晉 ,  今村 速夫 ,  酒多 喜久
出願人/特許権者： 東ソー株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-143653
公開番号（公開出願番号）：特開平5-310606
出願日： 1992年05月11日
公開日（公表日）： 1993年11月22日
要約：

【要約】【目的】工業的に重要な原料であるヘキサメチルベンゼンを副生成物を生じることなく選択的に生成する方法を提供する。【構成】X型ゼオライトにメタノールを接触させることによりヘキサメチルベンゼンを一段で選択的に製造する。

請求項（抜粋）：

ヘキサメチルベンゼンを製造する方法において、X型ゼオライトにメタノールを接触させることを特徴とするヘキサメチルベンゼンの製造方法。

IPC (6件)：

C07C 15/02 ,  B01J 29/08 ,  B01J 29/14 ,  B01J 29/16 ,  C07C 1/24 ,  C07B 61/00 300