特許

J-GLOBAL ID：200903089354733885

光酸発生剤及びそれを含有するフォトレジスト組成物、並びに該組成物を用いたパターン形成方法

発明者： 岩佐 繁之 ,  前田 勝美 ,  中野 嘉一郎 ,  長谷川 悦雄
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 西村 征生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-224661
公開番号（公開出願番号）：特開2002-040636
出願日： 2000年07月25日
公開日（公表日）： 2002年02月06日
要約：

【要約】【課題】 透明性を向上させた上で、感度及び熱安定性の低下を防止することができるようにした光酸発生剤及びそれを含有するフォトレジスト組成物、並びに該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】 開示される光酸発生剤は、一般式(1)で表されるスルホニウム塩化合物から成る。【化2】(2)(但し、R1、R2はアルキル基又はオキソ基を有するアルキル基、あるいはこれらが環状につながったアルキレン基又はオキソ基を有するアルキレン基を表し、R3、R4、R5は水素原子又は直鎖状、分岐状、単環式、多環式あるいは橋かけ環式のアルキル基を表す)。

請求項（抜粋）：

一般式(1)で表されるスルホニウム塩化合物から成ることを特徴とする光酸発生剤。【化1】(1)(但し、Rはアルキレン基又はオキソ基を有するアルキレン基を表し、R3、R4、R5は水素原子又は直鎖状、分岐状、単環式、多環式あるいは橋かけ環式のアルキル基を表す)。

IPC (10件)：

G03F 7/004 503 ,  C07C381/12 ,  C08K 5/36 ,  C08L101/00 ,  G03F 7/038 601 ,  G03F 7/039 601 ,  G03F 7/20 502 ,  H01L 21/027 ,  C07D333/46 ,  C07D335/02

FI (10件)：

G03F 7/004 503 A ,  C07C381/12 ,  C08K 5/36 ,  C08L101/00 ,  G03F 7/038 601 ,  G03F 7/039 601 ,  G03F 7/20 502 ,  C07D333/46 ,  C07D335/02 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (34件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA11 ,  2H025AB16 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CA48 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB43 ,  2H025CC17 ,  2H025FA12 ,  2H097BA06 ,  2H097CA13 ,  2H097FA01 ,  2H097JA03 ,  2H097LA10 ,  4C023JA05 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB92 ,  4J002BG011 ,  4J002BG041 ,  4J002BG051 ,  4J002BG071 ,  4J002BH021 ,  4J002BK001 ,  4J002EV296 ,  4J002EV306 ,  4J002GP03