特許
J-GLOBAL ID：200903089362876814
太陽電池の製造方法、それにより製造された太陽電池、並びに半導体素子の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小池 隆彌
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-073968
公開番号（公開出願番号）：特開平11-274533
出願日： 1998年03月23日
公開日（公表日）： 1999年10月08日
要約：
【要約】【課題】 本発明は、非晶質半導体を用いた太陽電池に好適で、高温プロセスを用いても高性能の凹凸形状の散乱反射面が形成可能な太陽電池の製造方法、それにより製造された太陽電池を提供することを目的とする。【解決手段】 シリコーン樹脂から成る透光性接着樹脂材料2を基板1上に塗布した後、その透光性接着樹脂材料2上に樹脂フィルム3を接着する工程を含む太陽電池の製造方法とする。
請求項（抜粋）：
シリコーン樹脂から成る透光性接着樹脂材料を基板上に塗布した後、該透光性接着樹脂材料上に樹脂フィルムを接着する工程を含む太陽電池の製造方法。
FI (2件)：
H01L 31/04 M
, H01L 31/04 B
