フォトレジスト

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-189477
公開番号（公開出願番号）：特開平6-035197
出願日： 1992年07月16日
公開日（公表日）： 1994年02月10日
要約：

【要約】【目的】サイドエッチング量を減少させ、被加工物の微細加工を目的としたポリビニルアルコール-重クロム酸塩系水性フォトレジストの改良に関する。【構成】ポリビニルアルコールと重クロム酸塩水溶液に水溶性アルキルモノスルホン酸をポリマー重量に対し1〜10重量%添加することよりなるフォトレジストである。

請求項（抜粋）：

ポリマーとしてポリビニルアルコールを用い、光架橋剤として重クロム酸塩を用い、溶媒として水を用いた水性フォトレジストにおいて、そのフォトレジスト溶液に、水溶性のアルキルモノスルホン酸をポリマー重量に対し、1〜10重量%添加したことを特徴とするフォトレジスト。

IPC (4件)：

G03F 7/04 , G03F 7/004 503 , G03F 7/038 , H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開昭55-156936
特開昭53-059506
特開昭52-152173

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