特許

J-GLOBAL ID：200903089366925364

光磁気記録基板

発明者： 竹谷 豊
出願人/特許権者： 帝人株式会社
代理人 (1件)： 白井 重隆
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-319777
公開番号（公開出願番号）：特開平9-138983
出願日： 1995年11月15日
公開日（公表日）： 1997年05月27日
要約：

【要約】【課題】 基板表面の傷付き易さを抑制すると共に、帯電防止性を向上させることで、ほこりの付着を低減して、信号の書き込み/読み取り特性に優れた光磁気記録ディスクを得る。【解決手段】 光磁気記録媒体において、レーザー光の照射側の表面に、(イ)ペンタエリスリトールのアクリレート変性脱水縮合物および/またはトリメチロールプロパントリアクリレート、(ロ)環状炭化水素のアクリル酸誘導体、(ハ)ジアルキルアミノアルキレン(メタ)アクリレートと芳香族スルホン酸カルボン酸無水物との混合液を主成分とする樹脂混合物を架橋してなる高分子薄膜を形成する。

請求項（抜粋）：

プラスチック材からなる基板側から照射するレーザー光、およびこれと反対側からの磁界の印加によって、情報の書き込みおよび/または読み取りが可能な光磁気記録基板において、レーザー光の照射側の表面に、下記(イ)〜(ハ)成分を主成分とする樹脂混合物を架橋してなる高分子薄膜を形成させたことを特徴とする光磁気記録基板。(イ)ペンタエリスリトールの1〜6量体の脱水縮合物であって、そのヒドロキシ基の3ヶ以上がアクリレートで変性されている多官能誘導体および/またはトリメチロールプロパントリアクリレート(ロ)環状炭化水素のアクリル酸誘導体(ハ)ジアルキルアミノアルキレン(メタ)アクリレートと芳香族スルホン酸カルボン酸無水物との混合液

IPC (3件)：

G11B 11/10 521 ,  C08F220/20 MMV ,  C09D133/06 PFY

FI (3件)：

G11B 11/10 521 H ,  C08F220/20 MMV ,  C09D133/06 PFY