特許

J-GLOBAL ID：200903089370225504

光学素子結合方法及び屈折率像形成材料

発明者： 塚本 浩司 ,  吉村 徹三 ,  石塚 剛 ,  本吉 勝貞
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 岡本 啓三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-047604
公開番号（公開出願番号）：特開平8-248257
出願日： 1995年03月07日
公開日（公表日）： 1996年09月27日
要約：

【要約】【目的】光通信や光インターコネクション等において光ファイバ、光導波路、半導体レーザ、LED、PD、レンズなどの光学素子間の結合の方法に関し、屈折率分布を形成する際に光を照射する時間に影響されずに屈折率分布を形成すること。【構成】2つの光学素子43,44のそれぞれの端面を間隔をおいて固定する工程と、特定波長帯の光照射時には屈折率分布の変化なく、該光の照射後の活性化処理により光照射領域に高屈折率分布が生じる屈折率像形成材料45を2つの前記光学素子43,44の前記端面の間に充填する工程と、2つの前記光学素子43,44の少なくとも一方の前記端面から前記屈折率像形成材料45に特定波長帯の光を照射する工程と、前記屈折率像形成材料45を加熱して光照射領域に集光性のレンズ効果を有する屈折率分布46を形成する工程とを含む。

請求項（抜粋）：

2つの光学素子のそれぞれの端面を間隔をおいて固定する工程と、特定波長帯の光照射時には屈折率分布の変化なく、該光照射後の活性化処理により光照射領域に高屈折率分布が生じる屈折率像形成材料を2つの前記光学素子の前記端面の間に充填する工程と、2つの前記光学素子の少なくとも一方の前記端面から前記屈折率像形成材料に特定波長帯の光を照射する工程と、前記活性化処理を施して前記屈折率像形成材料に前記活性処理を施し集光性のレンズ効果を有する屈折率分布を形成する工程とを有する光学素子結合方法。

IPC (4件)：

G02B 6/26 ,  G02B 3/00 ,  G02B 6/32 ,  G02B 6/42

FI (4件)：

G02B 6/26 ,  G02B 3/00 B ,  G02B 6/32 ,  G02B 6/42