X線露光装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-019139
公開番号（公開出願番号）：特開平5-217858
出願日： 1992年02月04日
公開日（公表日）： 1993年08月27日
要約：

【要約】【目的】 X線源側とX線露光光学系側との真空度が異なるように設定されたX線露光装置において、差動排気系を設けることなく両者の所定の真空度を維持する。【構成】 X線源1と、該X線源1を発したX線をマスク5に導き、マスク5上のパターンをウエハ7に焼き付けるためのX線露光光学系6と、真空容器8と、からなるX線露光装置において、X線源1と露光光学系6との間のX線の光路上にX線を透過する真空分離フィルタ3を設けて、真空容器8内の真空空間を分離した。

請求項（抜粋）：

X線源、該X線源から発するX線をマスク上に照射してこのマスク上のパターンをウエハに投影するX線露光光学系、および前記X線源とX線露光光学系を真空空間中に維持する真空容器からなるX線露光装置において、前記X線源およびX線露光光学系間のX線の光路上にX線が透過可能なフィルタを設け、前記X線源が設置される真空空間と前記露光光学系が設置される真空空間とを分離したことを特徴とするX線露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 503 , G03F 7/20 521

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開昭60-062116
特開昭63-009930
特開平4-014000

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