特許
J-GLOBAL ID：200903089396503758
光導波路及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-225034
公開番号（公開出願番号）：特開平8-086929
出願日： 1994年09月20日
公開日（公表日）： 1996年04月02日
要約：
【要約】【目的】 製造工程数を大幅に低減することができると共に、特性の向上を図ることができる構造を有する光導波路とその製造方法を提供する。【構成】 夫々屈折率の等しいガラス材から成り、中間層7に少なくともGeO2 を含有する3層の薄膜層6,7,8を基板5上に積層した後、所定のマスクパターン9を設けて、中間層7中のコアを形成すべき部分に、260nm未満の波長の光を照射することにより、薄膜層6,7,8の光未照射部分とは異なる屈折率変化を誘起させる。これにより、屈折率変化が誘起した部分がコア、薄膜層6,7,8の光未照射部分がクラッドとなる光導波路が形成される。
請求項（抜粋）：
コアを埋設したクラッドが基板上に形成されて成る光導波路の製造方法において、夫々屈折率の等しいガラス材から成り、中間層にGeO2 を含有する3層の薄膜層を基板上に積層する第1の工程と、前記中間層中のコアを形成すべき部分に、260nm未満の波長の光を照射することにより、前記3層の薄膜の光未照射部分とは異なる屈折率変化を誘起させる第2の工程と、を有することを特徴とする光導波路の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G02B 6/12 M
, G02B 6/12 N
