特許
J-GLOBAL ID：200903089399892798
ポジ型フォトレジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-217593
公開番号（公開出願番号）：特開平9-062006
出願日： 1995年08月25日
公開日（公表日）： 1997年03月07日
要約：
【要約】【課題】 露光後のベークによる膜収縮及び現像時の膜減りが少なく、良好な感度とプロファイル及び高解像力を有し、更に露光後加熱までの保存中の安定性、即ち保存中にさらされる可能性の高いアンモニア等の塩基性物質による影響を受けにくいポジ型トォトレジスト組成物、及びそれを用いた塗膜を提供する。【解決手段】 (A)アルカリ可溶性樹脂、(B)特定のエノールエーテル基を少なくとも1個有する化合物、(C)酸性基を有する化合物、(D)酸分解性基を有する分子量3,000以下の低分子化合物、(E)活性光線または放射線の照射により分解して酸を発生する化合物、(F)溶剤を含むことを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物並びに前記ポジ型フォトレジスト組成物を基板に塗布し、加熱乾燥して得られる塗膜。
請求項（抜粋）：
(A)アルカリ可溶性樹脂、(B)下記一般式(a)で示されるエノールエーテル基を少なくとも1個有する化合物、【化1】(式(a)中、R1〜R3は、同一もしくは異なっていても良く水素原子、置換もしくは非置換のアルキル基、置換もしくは非置換のシクロアルキル基、置換もしくは非置換のアリール基を表わし、また、それらの内の2つが結合して飽和又は不飽和の環を形成してもよい。)(C)酸性基を有する化合物(D)酸分解性基を有する分子量3,000以下の低分子化合物(E)活性光線または放射線の照射により分解して酸を発生する化合物(F)溶剤を含むことを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。
IPC (5件)：
G03F 7/039 501
, G03F 7/00 503
, G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503
, H01L 21/027
G03F 7/039 501
, G03F 7/00 503
, G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503
, H01L 21/30 502 R
