特許
J-GLOBAL ID：200903089400726279
光素子および光素子の製造方法および光導波路の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-252598
公開番号（公開出願番号）：特開平6-102554
出願日： 1992年09月22日
公開日（公表日）： 1994年04月15日
要約：
【要約】【目的】 光導波路および光波長変換素子等の光素子の製造方法に関するもので光導波路の表面荒れをなくし、損失を少なくし、また基板と同程度の非線形性を得る。【構成】 LiTaO3基板1aにTa6によるマスクパターンを形成しその後、燐酸リチウムを加えたピロ燐酸中でプロトン交換法を行い高屈折率層5を形成する。この高屈折率層5を赤外線加熱装置により460°C、10秒間熱処理し結晶性を回復させ非線形性が大きく閉じ込めの良い光導波路2を製造する。【効果】 燐酸をリチウム塩で希釈することにより、低損失で非線形光学効果の大きな光導波路が得られる。
請求項（抜粋）：
リチウム塩を加えた燐酸中で、LiNbxTa1-xO3(0≦x≦1)基板を熱処理することで形成された高屈折率層を備えたことを特徴とする光素子。
IPC (2件)：
引用特許：
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