特許
J-GLOBAL ID:200903089416376545
乾燥装置
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-259703
公開番号(公開出願番号):特開2002-067520
出願日: 2000年08月29日
公開日(公表日): 2002年03月08日
要約:
【要約】【課題】厚膜の塗布膜層の乾燥において、乾燥初期で表面皮膜が形成されず、かつ塗布膜層の温度を上昇させ、乾燥時間を短縮する乾燥装置の提供にある。【解決手段】走行する基材10に塗布膜層が形成された塗布部材1の乾燥装置100であって、熱風吹付け装置40及び/又は赤外線照射装置50でなる加熱乾燥手段の前に100〜140°Cの水蒸気を噴射する水蒸気加熱装置30を具備する乾燥装置100とするものである。
請求項(抜粋):
走行する基材に塗布膜層が形成された塗布部材の乾燥装置であって、加熱乾燥手段の前に水蒸気を噴射する水蒸気加熱手段を具備することを特徴とする乾燥装置。
IPC (4件):
B41M 7/00
, B41F 23/04
, F26B 13/00
, F26B 13/10
FI (4件):
B41M 7/00
, B41F 23/04 A
, F26B 13/00 B
, F26B 13/10 E
Fターム (25件):
2C020CA01
, 2C020CA05
, 2C020CA11
, 2H113AA05
, 2H113EA02
, 2H113FA29
, 2H113FA30
, 2H113FA35
, 2H113FA36
, 2H113FA48
, 3L113AA02
, 3L113AA03
, 3L113AB01
, 3L113AB06
, 3L113AC10
, 3L113AC27
, 3L113AC31
, 3L113AC48
, 3L113BA26
, 3L113CB01
, 3L113CB18
, 3L113CB21
, 3L113CB34
, 3L113DA10
, 3L113DA24
引用特許: